基本解釋
一種大功率半導(dǎo)體整流器件。除具有單向?qū)щ姷恼髯饔猛?，還能對(duì)電流起控制開(kāi)關(guān)作用?？煽毓枰部捎脕?lái)變直流電為交流電或改變交流電的頻率。廣泛用于機(jī)電、化工、冶金、交通運(yùn)輸和自動(dòng)化技術(shù)中。
詞語(yǔ)來(lái)源
該詞語(yǔ)來(lái)源于人們的生產(chǎn)生活。
詞語(yǔ)造句
1、可控硅元件在工作時(shí)會(huì)發(fā)熱，使設(shè)備內(nèi)溫度很高。
2、本文討論了20千周正弦波100安可控硅元件的關(guān)斷和開(kāi)通時(shí)間的對(duì)立統(tǒng)一關(guān)系和要求。
3、此外為了調(diào)節(jié)結(jié)晶系統(tǒng)中的漿液濃度，防止生產(chǎn)參數(shù)發(fā)生較大的變化，該泵還配有一個(gè)可控硅控制器。
4、中頻大功率感應(yīng)加熱裝置，多年來(lái)一直采用可控硅做為開(kāi)關(guān)器件。
5、因?yàn)樽钚】煽毓璧膶?dǎo)通電壓降的緣故，熱損耗顯得至關(guān)重要。
6、本文介紹了一種利用可控硅相控整流技術(shù)調(diào)節(jié)電壓的方法及實(shí)用裝置。
7、反向阻斷四極型可控硅、半導(dǎo)體控制開(kāi)關(guān)?？娠@示或隱藏管殼。
8、本文論述了一臺(tái)微機(jī)控制的可控硅-直流電機(jī)調(diào)速系統(tǒng)。
9、該系統(tǒng)以可控硅三相橋式全控整流電路構(gòu)成系統(tǒng)的主電路，采用同步信號(hào)為鋸齒波的觸發(fā)電路。
10、采用電力電子技術(shù)實(shí)現(xiàn)消弧線圈的控制是利用可控硅的相控方式對(duì)消弧線圈實(shí)現(xiàn)電感量可調(diào)的原理。
11、它采用可控硅觸發(fā)方式，使計(jì)算機(jī)方便地進(jìn)行過(guò)程控制和設(shè)備控制。
12、機(jī)組勵(lì)磁系統(tǒng)采用由德國(guó)西門(mén)子公司提供的自并勵(lì)可控硅靜止整流勵(lì)磁系統(tǒng)。
13、可控硅房、電動(dòng)機(jī)和其他交流照明設(shè)備，都應(yīng)當(dāng)裝接地線。
14、建立了ZX7-400S型可控硅逆變式弧焊電源動(dòng)態(tài)過(guò)程的數(shù)學(xué)模型；
15、方法：采用雙向可控硅替代繼電器控制模式進(jìn)行設(shè)計(jì)。
16、由于采用可控硅，保證電容器組在投入時(shí)無(wú)沖擊，無(wú)振蕩。
17、本文詳細(xì)敘述了DKN-16G型可控硅快速點(diǎn)焊機(jī)的電路原理和結(jié)構(gòu)特點(diǎn)。
18、最終實(shí)現(xiàn)了在可控硅整流焊機(jī)上模擬出類似直流旋轉(zhuǎn)焊機(jī)的電弧穿透力。
19、重點(diǎn)介紹使用萬(wàn)用表測(cè)量雙向可控硅輸出電壓波形對(duì)稱性的簡(jiǎn)單方法。
20、詳細(xì)分析了恒流高壓電源與可控硅高壓電源的電路原理、負(fù)載跟蹤特性和火花抑制特性。
22、低慣量的直流傳動(dòng)電動(dòng)機(jī)由快速可控硅裝置供電。
23、本文分析了目前紡織廠通風(fēng)機(jī)可控硅串級(jí)調(diào)速四種主電路方案的特點(diǎn)、效率和諧波等情況。
24、詳細(xì)地介紹了可控硅整流器（SCR）線型觸發(fā)器的改進(jìn)型設(shè)計(jì)方案，提出了用于高脈沖重復(fù)頻率的雙極晶體管觸發(fā)器的實(shí)用新電路。
25、直流電源柜：三相可控硅整流橋（SCR）、計(jì)算機(jī)數(shù)字脈沖觸發(fā)板、平波電感、L、C濾波器等組成。
26、大多數(shù)的800千伏直流設(shè)備，例如可控硅閥和直流濾波電容器，都可以通過(guò)適當(dāng)?shù)母牧歼_(dá)到800千伏水平，僅有換流變壓器和穿墻套管需要重點(diǎn)研發(fā)。
27、本文對(duì)可控硅整流電路采用蒸發(fā)冷卻方式進(jìn)行了理論分析和實(shí)驗(yàn)研究。
28、本文提出一種采用廉價(jià)單片微機(jī)8031來(lái)構(gòu)成高分辨率可控硅數(shù)字觸發(fā)器的方案。
29、通過(guò)對(duì)漫灣水電站原有勵(lì)磁系統(tǒng)可控硅整流柜的缺陷分析，提出對(duì)原裝置進(jìn)行改造的必要性。
30、實(shí)際應(yīng)用表明，PSR系統(tǒng)完全可以滿足鋁電解生產(chǎn)對(duì)可控硅整流設(shè)備的要求。
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